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（1）峰面積減小要素配置改革。造成峰面積減小的主要原因有：微膜脫水、抑制器漏液保障性、溶液流路不暢和微膜被玷污核心技術體系。抑制器不用，會發(fā)生微膜脫水現(xiàn)象持續發展，為激活抑制器，可用注射器向陰離子抑制器內以淋洗液流路相反的方向注入少許 0.2 mol／L 硫酸促進善治；陽離子用 0.2 mol／L 氫氧化鈉擴大。同時向再生液進口注入少許去離子水，并將抑制器放置半小時以上發揮效力。抑制器內玷污的金屬離子可以用草酸溶液清洗新格局。

（2）背景電導高。在化學抑制型電導檢測分析過程中安全鏈，若背景電導高顯示，則說明抑制器部分存在一定問題。其原因大多是操作不當真正做到，例如：淋洗液或再生液流路堵塞科普活動，系統(tǒng)中無溶液流動造成背景電導偏高或使用的電抑制器其電流設置太小等創新延展。膜被污染后交換容易下降亦會使背景電導升高。而失效的抑制器在使用時會出現(xiàn)背景電導持續(xù)升高的現(xiàn)象長期間，此時應更換一只新的抑制器基本情況。

（3）漏液。抑制器漏液的主要原因是抑制器內的離子交換膜沒有充分水化高端化。因此力量，長時間未使用的抑制器在使用前應先讓膜水化溶脹后再使用。另外要再生液出口順暢提單產，因為反壓較大時也會造成抑制器漏液深入實施。由于抑制器保管不當造成抑制器內的微膜收縮、破裂也會發(fā)生漏液現(xiàn)象發展空間。